شهر سخت افزار: 🔥 ادعای بزرگ شرکت چینی Naura: فناوری جدیدمان CXMT را از لیتوگرافی EUV بی‌نیاز م

🔥 ادعای بزرگ شرکت چینی Naura: فناوری جدیدمان CXMT را از لیتوگرافی EUV بی‌نیاز می‌کند📌 محدودیت دسترسی به تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی EUV، شرکت‌های چینی را به سمت سایر راهکارهای افزایش تراکم ترانزیستورها مثل پکچینگ سه‌بعدی تراشه‌ها سوق داده است.📰 پژوهش جدید شرکت چینی Naura Technology Group، روی یکی از چالش‌های اصلی ساخت DRAM سه‌بعدی تمرکز دارد: فرایند حکاکی (Etching) یکنواخت در تعداد زیادی از لایه‌های عمودی. 🔬 این شرکت در مقاله خود فرایندی برای حکاکی یک ساختار ۶۴ لایه‌ای متشکل از لایه‌های متناوب سیلیکون (Si) و سیلیکون-ژرمانیوم (SiGe) تشریح کرده است. در معماری DRAM سه‌بعدی، حذف انتخابی لایه‌های SiGe فضای لازم برای ایجاد خطوط و گیت‌های حافظه را فراهم می‌کند.💾 اگر این نتایج در تولید انبوه نیز قابل تکرار باشند، فناوری Naura می‌تواند یکی از موانع مهم توسعه DRAM سه‌بعدی در چین را برطرف کند و به شرکت‌هایی مانند CXMT امکان دهد با تکیه بیشتر بر ساختار عمودی، بخشی از محدودیت‌های ناشی از نبود تجهیزات پیشرفته EUV را دور بزنند.🔗 در شهر سخت‌افزار بخوانید🆔@ShahrSakhtAfzar