‏🇨🇳 فاصله واقعی چین با ASML چقدر است؟ | پشت پرده گلوگاه EUV در صنعت تراشه‏🔬 چین در سال‌های اخیر د

‏🇨🇳 فاصله واقعی چین با ASML چقدر است؟ | پشت پرده گلوگاه EUV در صنعت تراشه‏🔬 چین در سال‌های اخیر در صنعت تراشه پیشرفت‌های قابل توجهی داشته؛ از تولید تراشه‌های پیشرفته SMIC و توسعه چیپ‌های هواوی تا آغاز تولید محدود حافظه HBM3E توسط CXMT. اما یک گلوگاه مهم هنوز پابرجاست: تجهیزات لیتوگرافی پیشرفته.‏⚙️ بر اساس ارزیابی جدید UBS، فناوری EUV چین از نظر سطح توسعه و فعالیت‌های ثبت اختراع، تقریباً در نقطه‌ای قرار دارد که ASML در سال ۲۰۰۴ قرار داشت؛ یعنی حدود ۱۵ سال پیش از رسیدن این فناوری به تولید انبوه.‏💡 EUV با استفاده از نور ۱۳.۵ نانومتری، امکان الگودهی بسیار دقیق روی ویفر را فراهم می‌کند و در گره‌های پیشرفته، تعداد مراحل پیچیده Multi-Patterning را کاهش می‌دهد. ASML همچنان تنها سازنده تجاری EUV در جهان است.‏🧩 چین در DUV شرایط متفاوتی دارد. UBS پیش‌بینی می‌کند این کشور بتواند طی ۲ تا ۵ سال آینده به تولید انبوه تجهیزات Immersion DUV برسد؛ هرچند عملکرد، قابلیت اطمینان و Throughput این تجهیزات در مقیاس صنعتی هنوز نیازمند اثبات است.🌐متن مقاله در شهرسخت‌افزار🆔@ShahrSakhtAfzar